超純水設備應用范圍                                              

1、電子材料加工、單晶硅半導體、半導體材料、液晶顯示器、計算機硬盤、印刷電路板、集成電路；

2、LCD、EL、PDP、TFT、玻殼和顯像管；

3、超純材料和超純化學劑導纖維和光盤；

4、汽車、家電表面電泳漆清洗用水及其它高科技精密產品；

超純水設備技術參數                                              

機器型號：N 1T-DI

制 水 量：1 T/H

主要管徑：DN 32

工作壓力：≤1.0MPa

產水電阻率：18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm

進水水源：城市自來水

進水水溫：5－35℃

機器電源：380V/50HZ

超純水設備產品介紹                                            

采用國際先進的反滲透裝置，配套進口混合離子交換設備或EDI設備和紫外線滅菌器、精密過濾器，出水水質符合電子部超純水水質標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級），取代蒸餾水，滿足大專院校、科研機構和工業企業的實驗、科研和生產對高純度純水的要求。

    該設備廣泛應用于電鍍工藝去離子水、電池生產工藝用純水、汽車、家用電器、建材產品表面涂裝、清洗純水、鍍膜玻璃用純水、紡織印染工藝所需的除硬除鹽水系統。超純水制造技術的發展極大地推動了半導體和電子工業的技術發展。

超純水設備工藝說明                                              

電子工業制備超純水的工藝大致分成以下3種：

　 1、離子交換樹脂制備超純水設備的傳統水處理方式，其基本工藝流程為：

原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→陽床→陰床→混床→后置保安過濾器→用水點（特點：污染比較大，自動化程度低，初期投入低）

　 2、反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合制備超純水設備的方式，其基本工藝流程為：

原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→反滲透設備→混床→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點 （特點：污染小，自動化程度高，初期投入中等，價格適中）

　 3、反滲透設備與電去離子（EDI）設備進行搭配制備超純水設備的的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：

原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→反滲透設備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點（特點：環保，自動化程度高，初期投入大，價格相對比較貴）